На панельной сессии "Реформа ГМК: 1 год спустя", проводимой в рамках Kazakhstan Global Investment Roundtable – 2019, выступил вице-министр индустрии и инфраструктурного развития Казахстана Тимур Токтабаев, передает Toppress.
Также в дискуссии приняли участие руководитель Московского бюро, Financial Times Генри Фой, председатель правления China Nonferrous Metal Industry’s Foreign Engineering and Construction Co. Ltd. (NFC) Кин Джунман, председатель правления Yilmaden Holding Альп Малазгирт и президент группы компаний "ДИНАТРОН" Виктор Попов.
Нарастающая тенденция к ухудшению качества сырьевой базы в мире, ужесточение экологических требований в связи с принятием Парижского климатического соглашения, постоянный рост инженерной сложности, капиталоемкости и сроков реализации новых проектов ввиду истощения ресурсов требуют внедрения более наукоемких, инновационных способов разведки и разработки месторождений.
Геологический потенциал Казахстана огромен, поэтому на сегодняшний день проводятся последовательные реформы, нацеленные на внедрение международных стандартов, новых технологий, а также создание комфортных условий инвесторам.
Благодаря изменениям в Кодекс "О недрах и недропользовании", удалось улучшить рейтинг Казахстана по привлекательности недропользования. На сегодняшний день Казахстан поднялся сразу на 49 позиции и занял 24 место, – сказал в ходе сессии Тимур Токтабаев.
Также вице-министр сообщил, что в 2019 году будет создана международная аккредитованная геохимическая лаборатория.
Это позволит проводить качественные геохимические исследования проб, с использованием передовых технологий и методов исследования, соответствующих международным стандартам, результаты которых будут признаваться мировыми финансовыми институтами. За годы независимости Казахстан смог создать благоприятный инвестиционный климат, получив хорошую международную оценку и заняв 28-е место в рейтинге Всемирного Банка "Doing Business", также Казахстан находится на лидирующих позициях среди стран с сильным влиянием добывающего сектора, – добавил он.
